一种半导体晶粒片冲洗装置论文和设计-李凤丽

全文摘要

本实用新型涉及一种半导体晶粒片冲洗装置,具有机架;所述机架上固定设有清洗仓;所述清洗仓包括仓体和仓盖;所述仓盖与仓体配合形成密封的清洗仓;所述清洗仓内设有通过驱动电机驱动其转动的转动平台;转动平台的边缘设有用于固定半导体晶圆的固定夹;所述清洗仓内还设有用于冲洗组件和吹干组件;所述清洗仓内设有出水管;所述冲洗组件包括连接进水管且与转动平台对应的喷头;所述吹干组件包括连接进气管且与转动平台对应的吹气管。本实用新型自动化程度高,对于半导体晶圆的清洁效果好。

主设计要求

1.一种半导体晶粒片冲洗装置,具有机架(1);所述机架(1)上固定设有清洗仓(2);所述清洗仓(2)包括仓体(21)和仓盖(22);所述仓盖(22)与仓体(21)配合形成密封的清洗仓(2);其特征在于:所述清洗仓(2)内设有通过驱动电机(3)驱动其转动的转动平台(4);转动平台(4)的边缘设有用于固定半导体晶圆的固定夹(41);所述清洗仓(2)内还设有用于冲洗组件(5)和吹干组件(6);所述清洗仓(2)内设有出水管(7);所述冲洗组件(5)包括连接进水管且与转动平台(4)对应的喷头(51);所述吹干组件(6)包括连接进气管且与转动平台(4)对应的吹气管(61)。

设计方案

1.一种半导体晶粒片冲洗装置,具有机架(1);所述机架(1)上固定设有清洗仓(2);所述清洗仓(2)包括仓体(21)和仓盖(22);所述仓盖(22)与仓体(21)配合形成密封的清洗仓(2);其特征在于:所述清洗仓(2)内设有通过驱动电机(3)驱动其转动的转动平台(4);转动平台(4)的边缘设有用于固定半导体晶圆的固定夹(41);所述清洗仓(2)内还设有用于冲洗组件(5)和吹干组件(6);所述清洗仓(2)内设有出水管(7);所述冲洗组件(5)包括连接进水管且与转动平台(4)对应的喷头(51);所述吹干组件(6)包括连接进气管且与转动平台(4)对应的吹气管(61)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶粒片冲洗装置,其特征在于:所述清洗仓(2)内固定设有集水槽(8);所述转动平台(4)设置在集水槽(8)的中心;所述出水管(7)与集水槽(8)连通。

3.根据权利要求2所述的一种半导体晶粒片冲洗装置,其特征在于:所述冲洗组件(5)包括通过电机驱动旋转的第一旋转座(52);所述第一旋转座(52)上固定设有导向杆;所述导向杆上固定设有喷头(51);所述吹干组件(6)包括通过电机驱动旋转的第二旋转座(62);所述第二旋转座(62)上固定设有进气管;进气管的出气端与吹气管(61)的进气端连接相通。

4.根据权利要求3所述的一种半导体晶粒片冲洗装置,其特征在于:所述第一旋转座(52)和第二旋转座(62)均设置在集水槽(8)的外部。

设计说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体晶粒的制造设备,特别涉及一种半导体晶粒片冲洗装置。

背景技术

制作半导体组件或者集成电路时需要将半导体晶圆切割成个别的组件芯片或晶粒。为了保证切割时的精准度,需要对半导体晶圆进行贴膜,在切割后,半导体晶圆在贴膜的粘性下还能保证完整性。切割后的半导体晶圆表面会存在一定的碎屑。为了保证半导体晶粒的质量,需要对切割后的半导体晶圆进行清洗。传统的清洗方式是利用冲洗装置对旋转中的半导体晶圆进行冲洗,并通过旋转甩干。但是由于贴膜本身具有一定的粘性,传统的清洗方式存在清洗效果一般,清洗效率低的缺点。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种冲洗效果好,冲洗效率高的半导体晶粒片冲洗装置。

实现本实用新型目的的技术方案是:本实用新型具有机架;所述机架上固定设有清洗仓;所述清洗仓包括仓体和仓盖;所述仓盖与仓体配合形成密封的清洗仓;所述清洗仓内设有通过驱动电机驱动其转动的转动平台;转动平台的边缘设有用于固定半导体晶圆的固定夹;所述清洗仓内还设有用于冲洗组件和吹干组件;所述清洗仓内设有出水管;所述冲洗组件包括连接进水管且与转动平台对应的喷头;所述吹干组件包括连接进气管且与转动平台对应的吹气管。

上述清洗仓内固定设有集水槽;所述转动平台设置在集水槽的中心;所述出水管与集水槽连通。

上述冲洗组件包括通过电机驱动旋转的第一旋转座;所述第一旋转座上固定设有导向杆;所述导向杆上固定设有喷头;所述吹干组件包括通过电机驱动旋转的第二旋转座;所述第二旋转座上固定设有进气管;进气管的出气端与吹气管的进气端连接相通。

上述第一旋转座和第二旋转座均设置在集水槽的外部。

本实用新型具有积极的效果:(1)本实用新型通过冲洗组件和吹干组件可以对半导体晶圆自动清洗清洗,且清洗效果好,清洗效率高;

(2)本实用新型能有效对清洗后的水进行收集,保证现场的整洁;

(3)本实用新型中冲洗组件和吹干组件可以转动工作,进一步提高清洗效果和清洗效率。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明,其中

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的俯视图。

具体实施方式

见图1和图2,本实用新型具有机架1;所述机架1上固定设有清洗仓2;所述清洗仓2包括仓体21和仓盖22;所述仓盖22与仓体21配合形成密封的清洗仓2;所述清洗仓2内设有通过驱动电机3驱动其转动的转动平台4;转动平台4的边缘设有用于固定半导体晶圆的固定夹41;所述清洗仓2内还设有用于冲洗组件5和吹干组件6;所述清洗仓2内设有出水管7;所述冲洗组件5包括连接进水管且与转动平台4对应的喷头 51、通过电机驱动旋转的第一旋转座52和导向杆;所述第一旋转座52上固定设有导向杆;所述导向杆上固定设有喷头51;所述吹干组件6包括连接进气管且与转动平台4 对应的吹气管61、通过电机驱动旋转的第二旋转座62;所述第二旋转座62上固定设有进气管;进气管的出气端与吹气管61的进气端连接相通。

所述清洗仓2内固定设有集水槽8;所述转动平台4设置在集水槽8的中心;所述出水管7与集水槽8连通。

所述第一旋转座52和第二旋转座62均设置在集水槽8的外部。

以上所述的具体实施例,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

设计图

一种半导体晶粒片冲洗装置论文和设计

相关信息详情

申请码:申请号:CN201822271798.X

申请日:2018-12-29

公开号:公开日:国家:CN

国家/省市:32(江苏)

授权编号:CN209298077U

授权时间:20190823

主分类号:H01L 21/67

专利分类号:H01L21/67;H01L21/687

范畴分类:38F;23E;

申请人:泰州芯格电子科技有限公司

第一申请人:泰州芯格电子科技有限公司

申请人地址:225500 江苏省泰州市姜堰南环西路1001号科技大厦

发明人:李凤丽;邹祥林;张俊

第一发明人:李凤丽

当前权利人:泰州芯格电子科技有限公司

代理人:周浩杰

代理机构:32338

代理机构编号:常州易瑞智新专利代理事务所(普通合伙)

优先权:关键词:当前状态:审核中

类型名称:外观设计

标签:;  ;  ;  

一种半导体晶粒片冲洗装置论文和设计-李凤丽
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