显示基板、显示面板以及显示装置论文和设计-汪杨鹏

全文摘要

一种显示基板、显示面板以及显示装置。显示基板，包括：透明区和围绕至少部分透明区的像素显示区，显示基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的第一光学层，第一光学层位于像素显示区内。第一光学层靠近透明区的部分包括第一光线偏转部，第一光线偏转部被配置为使透明区周围的像素显示区的图像光向透明区偏转以在透明区进行显示。采用本公开实施例提供的显示基板，可以在透明区显示图像，以保持整个显示基板的显示完整性。

主设计要求

1.一种显示基板，其特征在于，包括：透明区和围绕至少部分所述透明区的像素显示区，所述显示基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的第一光学层，所述第一光学层位于所述像素显示区内，其中，所述第一光学层靠近所述透明区的部分包括第一光线偏转部，所述第一光线偏转部被配置为使所述透明区周围的所述像素显示区的图像光向所述透明区偏转以在所述透明区进行显示。

设计方案

1.一种显示基板，其特征在于，包括：透明区和围绕至少部分所述透明区的像素显示区，

所述显示基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的第一光学层，所述第一光学层位于所述像素显示区内，

其中，所述第一光学层靠近所述透明区的部分包括第一光线偏转部，所述第一光线偏转部被配置为使所述透明区周围的所述像素显示区的图像光向所述透明区偏转以在所述透明区进行显示。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：

像素单元，设置在所述衬底基板上，且位于所述像素显示区，所述第一光学层位于所述像素单元的出光侧，

其中，沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光线偏转部的厚度逐渐增大，且所述第一光线偏转部远离所述像素单元的一侧填充有比所述第一光线偏转部折射率小的介质。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一光学层还包括至少一个第二光线偏转部，所述第二光线偏转部位于所述第一光线偏转部远离所述透明区的一侧，沿所述方向，所述第二光线偏转部的厚度逐渐增大，且所述第二光线偏转部远离所述像素单元的一侧填充有比所述第二光线偏转部折射率小的介质。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第二光线偏转部被垂直于所述衬底基板的平面截取的截面形状与所述第一光线偏转部被所述平面截取的截面形状相同。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：

像素单元，设置在所述衬底基板上，且位于所述像素显示区，所述第一光学层位于所述像素单元的出光侧，

其中，沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光线偏转部的厚度逐渐减小；

所述显示基板还包括：第二光学层，与所述第一光线偏转部远离所述像素单元的一侧表面贴合，所述第二光学层的折射率大于所述第一光线偏转部的折射率。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，沿所述方向，所述第一光学层的除所述第一光线偏转部以外的部分的厚度逐渐变小。

7.根据权利要求2-6任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一光线偏转部的远离所述像素单元一侧的表面被垂直于所述衬底基板的平面截取的形状为直线或者曲线。

8.根据权利要求1-6任一项所述的显示基板，其特征在于，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述衬底基板与所述透明区正对位置包括通孔。

9.根据权利要求1-6任一项所述的显示基板，其特征在于，所述衬底基板为透明基板。

10.根据权利要求1-6任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板或彩膜基板。

11.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为盖板玻璃，所述衬底基板包括凹槽，所述第一光学层位于所述凹槽内；

沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光线偏转部的厚度逐渐减小；

所述衬底基板的折射率大于所述第一光学层的折射率，且所述衬底基板位于所述第一光学层的出光侧。

12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述第一光学层远离所述衬底基板的一侧表面与所述衬底基板的表面平齐。

13.一种显示面板，其特征在于，包括：

权利要求1-12任一项所述的显示基板，

其中，垂直于所述衬底基板的方向，所述显示面板与所述透明区正对位置是透明的。

14.一种显示装置，其特征在于，包括：

权利要求13所述的显示面板，以及

位于所述透明区且位于所述显示面板的非出光侧的功能部件。

15.根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于，所述功能部件包括相机模组、3D结构光模组、飞行时间法3D成像模组和红外感测模组至少之一。

设计说明书

技术领域

本公开至少一个实施例涉及一种显示基板、显示面板以及显示装置。

背景技术

目前，全面屏手机的概念已在手机市场受到广泛的关注，也是未来手机的发展方向。这种全面屏手机中，可以将摄像头隐藏起来以使正面可视区域几乎全是屏幕，从而使用户得到较佳的显示效果。

实用新型内容

本公开的至少一实施例提供一种显示基板、显示面板以及显示装置。采用本公开实施例提供的显示基板，可以在透明区显示图像，以保持整个显示基板的显示完整性。

本公开的至少一实施例提供一种显示基板，包括：透明区和围绕至少部分所述透明区的像素显示区，所述显示基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的第一光学层，所述第一光学层位于所述像素显示区内。所述第一光学层靠近所述透明区的部分包括第一光线偏转部，所述第一光线偏转部被配置为使所述透明区周围的所述像素显示区的图像光向所述透明区偏转以在所述透明区进行显示。

例如，显示基板还包括：像素单元，设置在所述衬底基板上，且位于所述像素显示区。所述第一光学层位于所述像素单元的出光侧。

例如，沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光线偏转部的厚度逐渐增大，且所述第一光线偏转部远离所述像素单元的一侧填充有比所述第一光线偏转部折射率小的介质。

例如，所述第一光学层还包括至少一个第二光线偏转部，所述第二光线偏转部位于所述第一光线偏转部远离所述透明区的一侧，沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第二光线偏转部的厚度逐渐增大，且所述第二光线偏转部远离所述像素单元的一侧填充有比所述第二光线偏转部折射率小的介质。

例如，所述第二光线偏转部被垂直于所述衬底基板的平面截取的截面形状与所述第一光线偏转部被所述平面截取的截面形状相同。

例如，沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光线偏转部的厚度逐渐减小；所述显示基板还包括：第二光学层，与所述第一光线偏转部远离所述像素单元的一侧表面贴合，所述第二光学层的折射率大于所述第一光线偏转部的折射率。

例如，沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光学层的除所述第一光线偏转部以外的部分的厚度逐渐变小。

例如，所述第一光线偏转部的远离所述像素单元一侧的表面被垂直于所述衬底基板的平面截取的形状为直线或者曲线。

例如，所述像素单元包括发光层和位于所述第一光学层与所述发光层之间的封装层。

例如，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述衬底基板与所述透明区正对位置包括通孔。

例如，所述衬底基板为透明基板。

例如，所述显示基板为阵列基板或彩膜基板。

例如，所述显示基板为盖板玻璃，所述衬底基板包括凹槽，所述第一光学层位于所述凹槽内；沿平行于所述衬底基板且从远离所述透明区向靠近所述透明区的方向，所述第一光线偏转部的厚度逐渐减小；所述衬底基板的折射率大于所述第一光学层的折射率，且所述衬底基板位于所述第一光学层的出光侧。

例如，所述第一光学层远离所述衬底基板的一侧表面与所述衬底基板的表面平齐。

本公开的至少一实施例提供一种显示面板，包括：上述显示基板。垂直于所述衬底基板的方向，所述显示面板与所述透明区正对位置是透明的。

本公开的至少一实施例提供一种显示装置，包括：上述显示面板，以及位于所述透明区且位于所述显示面板的非出光侧的功能部件。

例如，所述功能部件包括相机模组、3D结构光模组、飞行时间法3D成像模组和红外感测模组至少之一。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1A和图1B为本公开一实施例的一示例提供的显示基板的局部结构示意图；

图2为本公开一实施例另一示例提供的显示基板的局部截面示意图；

图3A为本公开另一实施例的一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图；

图3B为本公开另一实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图；

图3C为本公开另一实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图；

图4为本公开另一实施例提供的显示基板的局部截面示意图；

图5A为本公开另一实施例的一示例提供的显示面板的局部截面结构示意图；

图5B为本公开另一实施例的另一示例提供的显示面板的局部截面结构示意图；

图5C为本公开另一实施例的另一示例提供的显示面板的局部截面结构示意图；以及

图6为本公开另一实施例提供的显示装置的局部结构示意图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

在研究中，本申请的发明人发现：为了实现全面屏的设计，可以在显示装置中设置通孔，并将摄像头放置在孔区内以实现摄像头的隐藏。然而，这种用于放置摄像头的通孔会导致显示屏显示图像时，该孔区无法显示，从而产生视觉上的黑点，影响用户的体验。

本公开的实施例提供一种显示基板，包括：透明区和围绕至少部分透明区的像素显示区，显示基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的第一光学层，第一光学层位于像素显示区内。第一光学层靠近透明区的部分包括第一光线偏转部，第一光线偏转部被配置为使透明区周围的像素显示区的图像光向透明区偏转以在透明区进行显示。采用本公开实施例提供的显示基板，可以在透明区显示图像，以保持整个显示基板的显示完整性。

下面结合附图对本公开实施例提供的显示基板、显示面板以及显示装置进行描述。

本公开至少一实施例提供一种显示基板。图1A和图1B为本公开一实施例的一示例提供的显示基板的局部结构示意图，图1B为图1A所示的显示基板沿AA线所截的局部截面示意图。如图1A和1B所示，该显示基板100包括透明区101和围绕至少部分透明区101的像素显示区102。图1A以像素显示区102围绕整个透明区101为例，但不限于此，像素显示区也可以围绕部分透明区。显示基板100包括衬底基板110以及位于衬底基板110上的第一光学层120，第一光学层120位于像素显示区102内，本实施例以透明区101不包括第一光学层120为例。第一光学层120靠近透明区101的部分包括第一光线偏转部121，第一光线偏转部121被配置为使透明区101周围的像素显示区102的图像光向透明区101偏转以在透明区101进行显示。

例如，如图1B所示，在第一光线偏转部121远离衬底基板110的一侧表面设置有第二光学层122，该第二光学层122与第一光线偏转部121的表面完全贴合，且第二光学层122的折射率大于第一光线偏转部121的折射率。沿平行于衬底基板110且从远离透明区101向靠近透明区101的方向，第一光线偏转部121的厚度逐渐变小，第二光学层122的厚度逐渐增大。

本实施例不限于第二光学层的厚度逐渐增大，只要从第一光线偏转部出射的图像光经过第二光学层后向透明区偏转即可。

本实施例以第一光线偏转部是沿平行于衬底基板且从远离透明区向靠近透明区的方向厚度逐渐变小的倾斜部为例，但不限于此，还可以是其他可以起到偏转光线的作用的部件。

例如，如图1B所示，在本示例中，显示基板100可以为阵列基板或者彩膜基板。该阵列基板可以为有机发光二极管的阵列基板，也可以为液晶显示面板的阵列基板。

例如，如图1B所示，显示基板100还包括像素单元130，设置在衬底基板110上，且位于像素显示区102。图1B示意性的示出像素单元130位于第一光学层120与衬底基板110之间，但不限于此，只要第一光学层位于像素单元的出光侧即可。本公开实施例中，像素单元仅设置在像素显示区，即，位于透明区的衬底基板上并不设置像素单元，因此，设置有像素单元的区域为像素显示区。

一般的没有设置第一光学层和第二光学层的显示基板中，由于透明区没有设置像素单元，则显示基板在用于显示图像时，像素单元的图像光几乎都是从像素显示区出射而实现画面的显示，透明区没有光线射出，因此会产生视觉上的黑点，影响显示效果。

本实施例提供的显示基板中，由于设置在像素单元出光侧的第一光学层的靠近透明区的位置包括第一光线偏转部，通过第一光线偏转部与第二光学层的配合以使像素显示区显示的图像光在入射到第一光线偏转部和第二光学层后，会向透明区偏转以在透明区进行显示。也就是，像素单元发出的图像光在通过第一光学层的第一光线偏转部和第二光学层后改变原来的光路，且这部分被改变光路的图像光中的至少部分从透明区发射出来，通过在原来的视觉黑点的位置进行显示以实现整个显示基板的显示完整性。

例如，与透明区最靠近的像素单元的图像光如果没有经过第一光线偏转部和第二光学层，则其会在像素显示区靠近透明区的边缘进行显示，而在该像素单元的图像光被第一光线偏转部和第二光学层偏转至透明区后，该像素单元则在透明区内进行显示，即，第一光线偏转部和第二光学层将在像素显示区靠近透明区的边缘显示的图像光偏转至透明区内。本实施例对在透明区进行显示的像素单元的数量不做限制，只要能实现整个显示基板的显示完整性即可。

例如，如图1B所示，沿平行于衬底基板110且从远离透明区101向靠近透明区101的方向，第一光学层120除靠近透明区101的第一光线偏转部121以外的其余部分的厚度逐渐变小，从而减小像素显示区102与透明区101之间的显示差异。此时，沿平行于衬底基板110且从远离透明区101向靠近透明区101的方向，第二光学层122除了位于第一光线偏转部121的部分外的其余部分的厚度逐渐增大，即，第二光学层122与第一光学层120的形状互补。也就是，在第一光学层远离衬底基板的部分表面与衬底基板的主平面不平行时，像素单元发出的图像光会从第一光学层的该部分表面入射到第二光学层中，通过第一光学层与第二光学层的配合，可以实现该部分图像光向靠近透明区的方向偏转。

例如，在靠近透明区的部分像素单元的图像光被偏转至透明区内以进行显示时，位于该部分像素单元附近的其他还在像素显示区进行显示的像素单元的图像光也被第一光学层除第一光线偏转部以外的部分改变光路，并向靠近透明区的方向偏转，从而使得从第一光学层出射的图像光分布更均匀，以减小像素显示区与透明区之间的显示差异。

本实施例(包括上述以及后面提到的示例)不限于第一光学层除第一光线偏转部以外的部分的厚度是逐渐变化的，第一光学层除第一光线偏转部以外的部分的厚度也可以是均等的，即第一光学层包括第一光线偏转部，以及位于第一光线偏转部远离透明区一侧的平坦部，此时，第二光学层仅设置在第一光线偏转部上即可。

例如，如图1B所示，第一光线偏转部121的远离像素单元130一侧的表面，例如倾斜面1210被垂直于衬底基板110的平面(图中以平行于XY面的平面为例)截取的形状可以为曲线，且曲线向靠近透明区101的一侧弯曲，此时该倾斜面1210为弧形面。将第一光线偏转部的倾斜面设计为弧形面，且弧形面向靠近透明区的一侧弯曲，可以使得从倾斜面出射的图像光分布均匀。

例如，图2为本实施例另一示例提供的显示基板的局部截面示意图。如图2所示，本示例中的显示基板100为有机发光二极管的阵列基板，像素单元包括发光层131，且发光层131靠近透明区101的部分发出的光经过第一光线偏转部121和第二光学层122后从透明区101出射，即，发光层131靠近透明区101的部分发出的光经过第一光线偏转部121和第二光学层122后改变光路，并向透明区101偏转以在透明区101进行显示。

例如，如图2所示，发光层131在衬底基板110上的正投影完全落入第一光学层120在衬底基板110上的正投影内，即，发光层131发出的光均经过第一光学层120后出射，从而减小像素显示区102与透明区101之间的显示差异。本实施例不限于此，发光层在衬底基板上的正投影可以部分落入第一光学层在衬底基板上的正投影内，只要位于透明区周围的发光层发出的光经过第一光线偏转部和第二光学层后从透明区出射，通过在原来的视觉黑点的位置进行显示以实现整个显示基板的显示完整性即可。

例如，像素单元还包括沿垂直于衬底基板的方向上，位于发光层两侧的阴极和阳极、位于阳极与发光层之间的空穴注入层和空穴传输层以及位于阴极与发光层之间的电子传输层和电子传输层等膜层(图中未示出)。

例如，如图2所示，显示基板100还包括位于第一光学层120与发光层131之间的封装层150。封装层150用于对发光层131进行封装，并防止发光层131等膜层被外界的水氧侵蚀。本公开的实施例可以不改变原有的有机发光二极管阵列基板的制作工艺，在一般的包括透明区的阵列基板封装完成后增加第一光学层，从而方便制作。

例如，在设置第一光学层之前，可以在衬底基板上采用光刻工艺制作薄膜晶体管，之后采用蒸镀、打印或者旋涂等方式制作发光层，最后进行封装以完成一般显示基板的制作工艺。例如，可以在形成发光层以及封装层等工艺中依次通过图案化上述膜层以形成与透明区对应的通孔。

本实施例中，在封装工艺后还包括采用刻蚀工艺在封装层上制作包括第一光线偏转部的第一光学层和第二光学层。

例如，制作显示基板的过程还可以为在形成第一光学层之前，发光层以及封装层还没有图案化形成过孔；在第一光学层图案化形成第一光线偏转部以后，在第一光学层上形成第二光学层；然后对与透明区对应的所有膜层进行图案化以形成与透明区对应的通孔。需要说明的是，图案化后的第二光学层至少位于第一光线偏转部。

例如，该第一光学层的材料包括透明的无机材料或者透明的有机材料。例如，无机材料可以包括氮化硅、氧化硅等，有机材料可以包括聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯等，本实施例对此不作限制。

本实施例中不限于采用刻蚀工艺制作第一光学层，还可以采用贴合方式在封装层上贴合包括第一光线偏转部的第一光学层，该第一光学层可以包括棱镜结构，其材料例如采用玻璃、透明塑料等材料。同理，第二光学层也可以采用贴合方式贴合在第一光线偏转部上。第二光学层应采用折射率大于第一光学层的折射率的材料。

例如，如图2所示，沿垂直于衬底基板110的方向，衬底基板110与透明区101正对位置包括通孔111。

例如，在封装层上制作完成第一光学层和第二光学层后，可以采用激光或者刀轮等方式对衬底基板进行切割以在正对透明区的位置形成通孔。例如，在该显示基板经过后续制作工艺形成显示装置时，该通孔与相机模组等结构正对或者用于放置相机模组等结构以使外界环境光能够经过通孔射入相机模组等结构。

本实施例不限于此，例如，衬底基板也可以为透明基板，在该透明基板能够保持良好的透光性时，衬底基板与透明区正对的位置也可以不设置通孔。例如，在该显示基板经过后续制作工艺形成显示装置时，相机模组位于衬底基板远离发光层的一侧且位于透明区，只要外界环境光能够经过透明的衬底基板射入相机模组即可。

图3A为本公开另一实施例的一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。如图3A所示，在本实施例中，显示基板200包括透明区201和围绕至少部分透明区201的像素显示区202。显示基板200包括衬底基板210以及位于衬底基板210上的第一光学层220，第一光学层220位于像素显示区202内。第一光学层220靠近透明区201的部分包括第一光线偏转部221，沿平行于衬底基板210且从远离透明区201向靠近透明区201的方向，第一光线偏转部221的厚度逐渐增大，第一光线偏转部221被配置为使透明区201周围的像素显示区202的图像光向透明区201偏转以在透明区201进行显示。显示基板200还包括像素单元230，设置在衬底基板210上，且位于像素显示区202，第一光学层220位于像素单元230的出光侧。

本实施例以第一光线偏转部是沿平行于衬底基板且从远离透明区向靠近透明区的方向厚度逐渐变大的倾斜部为例，但不限于此，还可以是其他可以起到偏转光线的作用的部件。

例如，如图3A所示，第一光线偏转部221远离像素单元230的一侧填充有比第一光线偏转部221折射率小的介质222。例如，该介质222可以为空气，也可以为其他折射率小于第一光线偏转部221的介质，本实施例对此不作限制。

本实施例提供的显示基板中，设置在像素单元出光侧的第一光学层的靠近透明区的位置包括第一光线偏转部，像素显示区显示的图像光在入射到第一光线偏转部后，会向透明区偏转以在透明区进行显示。也就是，像素单元发出的图像光在通过第一光学层的第一光线偏转部后改变原来的光路，且这部分被改变光路的图像光中的至少部分从透明区发射出来，通过在原来的视觉黑点的位置进行显示以实现整个显示基板的显示完整性。

例如，本示例中的显示基板为有机发光二极管的阵列基板，像素单元230包括发光层(图中未示出)，且发光层靠近透明区的部分发出的光经过第一光线偏转部后从透明区出射，即，发光层靠近透明区的部分发出的光经过第一光线偏转部后改变光路，并向透明区偏转以在透明区进行显示。

例如，显示基板还包括位于第一光学层与发光层之间的封装层。封装层用于对发光层进行封装，并防止发光层等膜层被外界的水氧侵蚀。本公开的实施例可以不改变原有的有机发光二极管阵列基板的制作工艺，在一般的包括透明区的阵列基板封装完成后增加第一光学层，从而方便制作。

本实施例中第一光学层的制作方法可以与图1A-图2所示的实施例中的第一光学层的制作方法相同，这里不再赘述。

例如，如图3A所示，第一光线偏转部221的倾斜面2210被垂直于衬底基板210的平面(图中以平行于XY面的平面为例)截取的形状可以为直线。

图3B为本实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。如图3B所示，第一光线偏转部221的倾斜面2210被垂直于衬底基板210的平面(图中以平行于XY面的平面为例)截取的截面形状还可以为曲线，且曲线向远离透明区201的一侧弯曲，此时该倾斜面2210为弧形面。将第一光线偏转部的倾斜面设计为弧形面，且弧形面向靠近透明区的一侧弯曲，可以使得从倾斜面出射的图像光分布均匀。

本示例以衬底基板210为透明基板为例，但不限于此，衬底基板也可以为不透明的基板，此时的衬底基板在与透明区相对的位置需要设置通孔以保证透明区的透光性。

图3C为本实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。如图3C所示，第一光学层220还包括至少一个第二光线偏转部223，第二光线偏转部223位于第一光线偏转部221远离透明区201的一侧，沿平行于衬底基板210且从远离透明区201向靠近透明区201的方向，每个第二光线偏转部223的厚度逐渐增大，且第二光线偏转部223远离像素单元230的一侧填充有比第二光线偏转部223折射率小的介质224。

例如，介质224可以为空气，也可以是其他折射率小于第二光线偏转部223的材料，本实施例对此不作限制。

例如，如图3C所示，第二光线偏转部223被垂直于衬底基板210的平面截取的截面形状与第一光线偏转部221被平面截取的截面形状相同以方便制作。

本示例中，在像素单元发出的图像光通过第二光线偏转部后也会改变传播方向，并向靠近透明区的一侧偏转，从而可以有效减小像素显示区与透明区的显示差异。

例如，在像素单元发出的图像光经过靠近第一光线偏转部的第二光线偏转部出射后并从透明区出射时，在第一光线偏转部和至少部分第二光线偏转部共同作用下，可以实现显示基板显示的完整性。此时，第一光学层的厚度设置的较小就可以满足显示基板显示的完整性。

例如，本示例以第一光线偏转部和第二光线偏转部的倾斜面被垂直于衬底基板的平面截取的形状为曲线为例，从而使出射光的均匀性更高，进一步减小像素显示区和透明区的显示差异性。

本实施例中的第一光线偏转部与第一光学层的除第一光线偏转部以外的部分之间包括凹槽，该凹槽填充有折射率小于第一光线偏转部的介质，例如空气，以保证从第一光线偏转部出射的图像光可以从透明区出射而实现显示基板显示的完整性。

本实施例中的第二光线偏转部与第一光学层的除第二光线偏转部以外的部分之间也包括凹槽，该凹槽填充有折射率小于第二光线偏转部的介质，例如空气，以保证从第二光线偏转部出射的图像光可以向靠近透明区的方向偏转而实现减小像素显示区和透明区的显示差异性的目的。

图4为本公开另一实施例提供的显示基板的局部截面示意图。如图4所示，本实施例提供的显示基板可以为盖板玻璃。在本实施例中，显示基板300包括透明区301和围绕至少部分透明区301的像素显示区302。显示基板300包括衬底基板310以及位于衬底基板310上的第一光学层320，第一光学层320位于像素显示区302内。衬底基板310包括凹槽311，第一光学层320位于凹槽311内；且第一光学层320的折射率小于衬底基板310的折射率。第一光学层320靠近透明区301的部分包括第一光线偏转部321，沿平行于衬底基板310且从远离透明区301向靠近透明区301的方向，第一光线偏转部321的厚度逐渐变小，第一光线偏转部321被配置为使透明区301周围的像素显示区302的图像光向透明区301偏转以在透明区301进行显示。这里的像素显示区指沿垂直于盖板玻璃的方向，与阵列基板上设置有像素单元的区域正对的区域。也就是，如果盖板玻璃上没有设置第一光学层，则从阵列基板的像素单元出射的光仅从盖板玻璃上的像素显示区出射，而透明区没有光出射，无法显示图像，会产生视觉上的黑点。

需要说明的是，本实施例中的第一光学层的形状以及特性与图1A-图2所示的第一光学层的形状以及特性相同，在此不再赘述。

本实施例通过在衬底基板上设置折射率小于该衬底基板的第一光学层，且该第一光学层靠近透明区的部分包括第一光线偏转部，从而可以在透明区显示图像，以保持整个显示基板的显示完整性。

需要说明的是，本实施例中的第一光学层相对于衬底基板更靠近像素单元，也就是，从像素单元发出的图像光先经过第一光学层，然后经过衬底基板出射。

例如，本实施例中的盖板玻璃可以应用于有机发光二极管显示装置或者液晶显示装置等显示器件以及包括该显示装置的电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件，本实施例不限于此。

例如，制作本实施例中的盖板玻璃的过程可以包括：对衬底基板与像素显示区对应的位置图案化以形成凹槽，即，图案化以使衬底基板的靠近透明区的至少部分沿平行于衬底基板且从远离透明区向靠近透明区的方向的厚度逐渐变大；然后在衬底基板上的凹槽(像素显示区)制作形成第一光学层。

本公开另一实施例提供一种显示面板，该显示面板包括上述任一实施例所述的显示基板。

图5A为本公开另一实施例的一示例提供的显示面板的局部截面结构示意图，图5A以显示基板为图2所示的显示基板为例进行描述，但不限于此，本示例中的显示基板还可以是上述其他任一示例所示的显示基板。

如图5A所示，垂直于衬底基板110的方向，显示面板与透明区101正对位置是透明的。

例如，如图5A所述，本示例中的显示面板为有机发光二极管显示面板，显示面板与透明区正对的位置没有设置发光层，即发光层仅位于像素显示区。如果没有设置第一光学层和第二光学层，发光层发出的光仅从像素显示区出射，此时透明区没有图像光出射，造成视觉上的黑点。由此，通过增设第一光学层和第二光学层，可以在透明区显示图像，以保持整个显示基板的显示完整性。本实施例不限于此，以图3C所示的显示基板为例，通过增设第一光学层，可以在透明区显示图像，以保持整个显示基板的显示完整性。

例如，显示面板还包括位于显示基板的显示侧的盖板玻璃160，位于透明区101的盖板玻璃160为显示面板的视窗，外界的环境光可以通过该视窗进入显示面板中，进而进入后续设置的相机模组结构中。

本实施例中以衬底基板110包括通孔111为例进行描述，在显示基板的衬底基板110上制作通孔111后，在第一光学层120上贴合盖板玻璃160。

例如，图5B为本实施例的另一示例提供的显示面板的局部截面结构示意图。如图5B所示，本示例中的显示面板为液晶显示面板，该显示面板还包括背光源170，第一光学层120位于背光源170的出光侧，且背光源170发出的光不经过透明区101。也就是，从背光源170出射的光仅入射到像素显示区102。

例如，如图5B所示，本示例中的显示面板包括位于背光源170出光侧的阵列基板1001、液晶层1002以及彩膜基板100。本示例以第一光学层120设置在彩膜基板100的彩膜层1003的出光侧为例，但不限于此，第一光学层也可以设置在阵列基板上。

例如，如图5B所示，本示例以背光源170与透明区101正对位置为背光源通孔171为例，从而使得背光源170出射的光仅入射到像素显示区102。并且本示例中的阵列基板1001、液晶层1002以及彩膜基板100与透明区101正对位置也为通孔为例。本示例不限于此，只要阵列基板1001、液晶层1002以及彩膜基板100与透明区101正对位置为透明的即可。

例如，图5C为本实施例的另一示例提供的显示面板的局部截面结构示意图。如图5C所示，本示例中的显示面板包括的显示基板为图4所示的显示基板。本示例中的显示基板为显示面板的盖板。本示例仅通过对盖板进行改进，可以方便制作。

本公开另一实施例提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一显示面板。图6为本实施例提供的显示装置的局部结构示意图，图6示意性的示出显示面板为包括图3C所示的显示基板的显示面板，但不限于此，还可以是包括上述任一示例中的显示基板的显示面板。如图6所示，显示装置包括位于透明区201且位于显示面板的非出光侧的功能部件270。外界的环境光可以通过透镜区201射入到功能部件270中。

例如，功能部件270位于像素单元230远离第一光学层220的一侧，且功能部件270在盖板玻璃260上的正投影与第一光学层220在盖板玻璃260上的正投影没有交叠。

例如，在衬底基板为透明基板时，衬底基板正对透明区的位置可以不设置通孔，此时，功能部件位于衬底基板远离盖板玻璃的一侧。

例如，图6以衬底基板包括通孔为例，功能部件可以插入衬底基板的通孔，也可以不插入通孔，即位于衬底基板远离盖板玻璃的一侧，本实施例对此不做限制。

例如，功能部件270包括相机模组(例如，前置摄像模组)、3D结构光模组(例如，3D结构光传感器)、飞行时间法3D成像模组(例如，飞行时间法传感器)、红外感测模组(例如，红外感测传感器)等至少之一。

例如，前置摄像模组通常在用户自拍或视频通话时启用，显示装置的像素显示区显示自拍所得到的图像供用户观看。前置摄像模组例如包括镜头、图像传感器、图像处理芯片等。景物通过镜头生成的光学图像投射到图像传感器表面(图像传感器包括CCD和CMOS两种)变换为电信号，通过图像处理芯片模数转换后变为数字图像信号，再送到处理器中加工处理，在显示屏上输出该景物的图像。

例如，3D结构光传感器和飞行时间法(Time of Flight，ToF)传感器可以用于人脸识别以对显示装置进行解锁等。

例如，功能部件270可以仅包括相机模组以实现自拍或者视频通话的功能；例如，该功能部件270可以进一步包括3D结构光模组或者飞行时间法3D成像模组以实现人脸识别解锁等，本实施例包括但不限于此。

本公开实施例提供的显示装置，可以在透明区显示图像，以保持整个显示装置的显示完整性。

有以下几点需要说明：

(1)本公开的实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)在不冲突的情况下，本公开的同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。

以上所述仅是本公开的示范性实施方式，而非用于限制本公开的保护范围，本公开的保护范围由所附的权利要求确定。

设计图

显示基板、显示面板以及显示装置论文和设计

显示基板、显示面板以及显示装置论文和设计-汪杨鹏

全文摘要

主设计要求

设计方案

设计说明书

设计图

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