论文摘要
针对1 080 nm连续激光光学系统中反射镜的需求,设计了低损耗高反膜膜系,优化了膜系中的电场分布,对高反膜元件工艺体系进行了控制。采用离子束溅射工艺,成功地在超光滑石英玻璃基底上研制出了Ta2O5/SiO2体系高反膜,对所获得的高反膜元件表面粗糙度、光学性能及抗激光损伤能力进行了讨论与分析。结果表明:研制的低损耗1 080 nm高功率激光高反膜元件表面粗糙度达到0.115 nm,在1 064 nm处吸收和散射损耗之和约17ppm,可承受500 kW/cm2的激光辐照而不损伤,工艺技术应用前景良好。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李钱陶,熊长新,李定
关键词: 高功率激光,低损耗,反射膜,离子束溅射,五氧化二钽,二氧化硅
来源: 光学与光电技术 2019年04期
年度: 2019
分类: 信息科技,基础科学,工程科技Ⅱ辑
专业: 物理学,工业通用技术及设备
单位: 华中光电技术研究所-武汉光电国家研究中心
分类号: O484.41
DOI: 10.19519/j.cnki.1672-3392.2019.04.016
页码: 97-102
总页数: 6
文件大小: 1568K
下载量: 122
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