电子束改性技术中均匀束斑与路径控制方法研究

电子束改性技术中均匀束斑与路径控制方法研究

论文摘要

针对通用电子束设备在材料改性过程中作用面积小、能量沉积不均匀、特殊位置可达性差等问题,设计了一种能量均匀沉积的大面积束斑波形,研制了专用电子束运动轨迹偏转控制系统。通过平板试件表面和回转体试件内外表面的改性工艺试验,验证了特征波形的能量均匀沉积和运动路径的控制效果。结果表明,采用均匀束斑和运动路径控制方法后,能够成倍提高电子束改性效率,提升束斑可达性,实现改性层厚度的均匀一致性。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 电子束高效均匀特征束斑技术
  • 2 电子束运动轨迹的路径控制方法
  • 3 验证工艺试验
  •   3.1 高效均匀束斑试验
  •   3.2 路径轨迹偏转试验
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 张永和,何俊

    关键词: 电子束,改性技术,均匀波形,路径控制

    来源: 真空与低温 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

    专业: 材料科学

    单位: 兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室

    分类号: TB306

    页码: 303-306

    总页数: 4

    文件大小: 1017K

    下载量: 37

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