多晶硅还原反应异常沉积研究

论文摘要

随着多晶硅行业竞争的日益激烈,全世界大部分多晶硅生产企业均采用改良西门子法来生产多晶硅。在多晶硅生产过程中,异常沉积的情况时常发生,反应机理却不明确,因此异常沉积的情况无法有效的控制,文章通过对异常沉积的现象归纳及对体反应反应机理的分析,推测异常沉积产生的原因,从而控制还原过程异常沉积的发生,希望对相关人员有所帮助。

论文目录

• 1 多晶硅异常沉积现象
•   1.1 多晶硅沉积反应概述
•   1.2 异常沉积现象
•   1.3 沉积溶解实验及组分分析
• 2 异常沉积机理分析
•   2.1 还原炉的雾化及体反应概念
•   2.2 基于体反应理论的机理分析
•     2.2.1 体反应沉积机理
•     2.2.2 体反应的促进作用
• 3 机理验证
•   3.1 模拟体反应的沉积试验
•   3.2 体反应沉积形态试验
• 4 结语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 李东升,陈峰,杨媛丽,姜海明,吴锋

关键词: 异常沉积,硅棒温度,氯硅烷浓度,催化

来源: 化工管理 2019年26期

年度: 2019

分类: 经济与管理科学,工程科技Ⅰ辑

专业: 无机化工

单位: 内蒙古神舟硅业有限责任公司

分类号: TQ127.2

页码: 176-178

总页数: 3

文件大小: 3379K

下载量: 33