光诱导氧化钒薄膜原位太赫兹波调制特性研究

论文摘要

采用磁控溅射及快速热氧化法在c-Al2O3基底制备出高质量的氧化钒薄膜。首先,分析结果表明所制备的氧化钒薄膜表面颗粒大小均匀,表面均方根粗糙度约为16.75 nm,主要成分为VO2和V2O5,V4+离子的含量为78.59%,所制备的氧化钒薄膜具有稳定的热致相变特性;其次,光诱导下薄膜的THz波调制特性研究结果显示,随着激励光功率增大,薄膜的THz透过率逐渐减小;最后,经过多次原位反复测试结果表明所制备的氧化钒薄膜具有稳定可逆的THz波调制特性,可应用于太赫兹开关和调制器等集成式太赫兹功能器件。

论文目录

• 0 引言
• 1 实验
• 2 实验结果与讨论
•   2.1 氧化钒薄膜表面微观结构分析
•   2.2 氧化钒薄膜热致相变性能分析
•   2.3 氧化钒薄膜太赫兹波调制特性分析
•   2.4 氧化钒光致相变机理分析
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 韦晓莹,李心元,吴环宝,王天鹤,贾晓东

关键词: 氧化钒薄膜,太赫兹波,调制,光诱导

来源: 红外与激光工程 2019年10期

年度: 2019

分类: 信息科技,基础科学

专业: 物理学,无线电电子学

单位: 天津津航技术物理研究所,航天动力技术研究院

分类号: O441.4

页码: 242-248

总页数: 7

文件大小: 3049K

下载量: 58