论文摘要
采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响。结果表明,在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜,都具有致密的组织、简单的FCC结构并呈现(200)择优取向。随着氮流量比从10%提高到30%,薄膜的硬度和弹性模量随之增大,其最大值达到14 GPa和212 GPa;电阻率基本上呈增大的趋势,最大值达到138μΩ?cm;饱和磁化强度和磁导率随之减小,薄膜饱和磁化强度最高为427.43 emu/cm~3。薄膜的矫顽力约为0。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 刘晓东,谈淑咏,霍文燚,张旭海,邵起越,方峰
关键词: 材料表面与界面,磁控溅射,硬度,电阻率,磁性能
来源: 材料研究学报 2019年03期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 材料科学,金属学及金属工艺,工业通用技术及设备
单位: 东南大学江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室,南京工程学院材料工程学院
基金: 国家自然科学基金项目(51371050),江苏省产学研前瞻性研究项目(BY2016076-08),江苏省六大人才高峰项目(2015-XCL-004),张家港市重点研发项目(ZKG1614),江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室开放基金(ASMA201708)~~
分类号: TG139;TB383.2
页码: 185-190
总页数: 6
文件大小: 999K
下载量: 245
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