我国高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步

我国高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步

论文摘要

本文叙述了我国几十年来高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步,随着电子器件功率的增大和电力电子技术的快速发展,高纯度氧化铝电子陶瓷的各种性能都需要相应的提升。本文也介绍了一些典型的国内外这方面陶瓷的配方,以资比较。通过多方面的应用和比较,确认四元系高纯度氧化铝电子陶瓷是氧化铝陶瓷家族中较为优秀的一员,应该得到进一步的推广和应用。

论文目录

  • 1 国内外三元系高Al2O3陶瓷的开发、性能和应用
  • 2 国内外四元系高Al2O3陶瓷的研发、性能和应用
  • 3 四元系和多元系Al2O3瓷的评价
  •   3.1 有关陶瓷的组成问题
  •   3.2 利用四元低共熔点来降低陶瓷烧结温度的问题
  •   3.3 陶瓷烧结的气氛问题
  •   3.4 当前我国高Al2O3电子陶瓷的性能和存在的问题
  • 4 结束语
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 高陇桥

    关键词: 高纯度氧化铝电子陶瓷,技术进步,组分,低共熔点,四元系统

    来源: 真空电子技术 2019年01期

    年度: 2019

    分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 北京真空电子技术研究所

    分类号: TQ174.6

    DOI: 10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2019.01.07

    页码: 32-36

    总页数: 5

    文件大小: 362K

    下载量: 198

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