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  • 高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体放电时空特性研究进展

    高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体放电时空特性研究进展

    论文摘要高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电凭借着高离化率优势,已经成为物理气相沉积(PVD)领域的核心技术。鉴于HiPIMS放电具有复杂的物理场配置和兆瓦级的峰值功率,其产...
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