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  • 退火温度和溅射时间对磁控溅射法制备Mg2Si薄膜的影响

    退火温度和溅射时间对磁控溅射法制备Mg2Si薄膜的影响

    论文摘要采用磁控溅射法和原位退火工艺在钠钙玻璃衬底上制备Mg2Si薄膜.首先在钠钙玻璃衬底上交替溅射沉积两层Si、Mg薄膜,冷却至室温后原位退火4h,制备出一系列Mg2Si薄膜...
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