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    基于NPLS的静压比对高超声速光学头罩冷却气膜影响作用研究

    论文摘要超声速冷却气膜是应用于高超声速成像制导飞行器上的一项关键技术,静压比是影响超声速冷却气膜流场发展的重要因素。为研究静压比对该流场的影响规律,在M6高超声速风洞中采用基于...
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