烷无氧芳构化论文

原子层沉积技术选择性修饰Mo/HZSM-5对甲烷无氧芳构化反应的影响
论文摘要利用原子层沉积（ALD）技术选择性沉积SiO2于Mo/HZSM-5催化剂外表面,制备一系列硅修饰的Mo/HZSM-5催化剂,并考察其催化甲烷无氧芳构化反应的性能。通过X...