导读:本文包含了精密抛光论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:精密抛光,无规行走,表面粗糙度,铍靶丸
精密抛光论文文献综述
李文琦,张建波,李恺,马小军,罗炳池[1]（2019）在《易碎Be靶丸表面精密抛光技术与理论分析》一文中研究指出目的建立一种新的易碎空心微球抛光机模型,并研制出该样机,用于空心Be微球的精密抛光。方法采用限位孔设计解决微球低应力夹持问题,添加不同数量的配重球,用于调整待抛球的滑动摩擦力大小和防止其飞出限位孔。上下盘偏心放置,实现微球无规运动。采用白光干涉仪分析抛光后Be微球的表面粗糙度。结果抛光机模型计算表明,待抛球一直在做周期性的变速和变加速运动,其周期大小由上盘转动频率决定,变加速运动增加了微球的滑动摩擦成分,有利于提高微球抛光效率。此外,待抛球表面抛光轨迹呈现无规行走,这有利于抛光的均匀性。使用该原理抛光机,在24 h内能够将直径1.2 mm、均方根表面粗糙度510 nm的易碎铍(Be)靶丸抛光至85 nm。结论理论和实验共同验证了易碎微球抛光机模型的合理性和可行性,上下盘放置方式、限位孔大小设计和配重球数量等关系着易碎微球的抛光均匀性和抛光效率。(本文来源于《表面技术》期刊2019年05期）
苏佳,张森,袁巨龙,吕冰海[2]（2018）在《轴承圆柱滚子外圆精密抛光工艺研究》一文中研究指出为解决研磨后圆柱滚子外圆表面质量差的问题,将化学机械抛光技术应用到圆柱滚子外圆加工中。基于自制的双平面研磨抛光机,采用偏心转摆式的加工方式对圆柱滚子进行了化学机械抛光,观测了不同抛光阶段圆柱滚子外圆表面的微观形貌,测量了不同抛光阶段圆柱滚子的表面粗糙度、圆度及表面硬度,并分析了不同抛光阶段中的抛光液对于圆柱滚子加工所起的作用。研究结果表明:在粗抛阶段时,圆柱滚子的表面质量及形状精度能得到快速改善;在精抛阶段时,圆柱滚子的表面质量及形状精度可得到进一步修正;抛光后,圆柱滚子的表面粗糙度可达到0. 011±0. 004μm,圆度可降至0. 31±0. 075 um。(本文来源于《机电工程》期刊2018年10期）
何艳,苑泽伟,段振云,张幼军[3]（2019）在《单晶碳化硅晶片高效超精密抛光工艺》一文中研究指出为改善现有碳化硅抛光方法存在的效率低、有污染、损伤大等问题,提出采用机械研磨与光催化辅助化学机械抛光组合工艺抛光单晶碳化硅晶片.光催化辅助化学机械抛光利用纳米二氧化钛在紫外光照射下生成羟基自由基的强氧化作用原子级去除碳化硅.通过L9(33)正交试验研制光催化辅助化学机械抛光抛光液,采用对碳化硅晶片表面粗糙度跟踪检测的方法确定优化加工工艺.甲基紫有机显色剂静态氧化试验结果表明:光催化剂对抛光液氧化性的影响最大,其次是电子俘获剂,再次是分散剂;较好的抛光液配方为二氧化钛0.5 g獉L-1、过氧化氢1.5 mol獉L-1、六偏磷酸钠0.1 g獉L-1.确定的优化抛光工艺为:采用5μm和2μm金刚石微粉分别研磨单晶碳化硅晶片30 min,材料去除率分别为8.72μm/h和4.56μm/h;然后采用光催化辅助化学机械抛光单晶碳化硅去除机械研磨带来的损伤,粗抛光选用0.5μm氧化铝微粉抛光60 min,精抛光选用0.05μm氧化铝微粉抛光50 min,粗抛光和精抛光的材料去除率分别为1.81μm/h和1.03μm/h.用该工艺抛光单晶碳化硅,获得的表面粗糙度约为0.47 nm,基本能满足单晶碳化硅高效、超光滑、低损伤的抛光要求.(本文来源于《哈尔滨工业大学学报》期刊2019年01期）
张景阳[4]（2018）在《通往超精密抛光工艺之巅，路阻且长》一文中研究指出在茫茫宇宙中，一个类金属合金宇宙探测器以超光速掠过，它由被强互作用力锁死的质子与中子构成，因表面绝对光滑而可以反射一切电磁波，并且无坚不摧……这是刘慈欣在科幻小说《叁体》中提到的一种名叫“水滴”的宇宙飞行器。事实上，人类对“绝对光滑”的追求也已(本文来源于《科技日报》期刊2018-06-26）
胡扬轩,邓朝晖,万林林,李敏[5]（2018）在《用于蓝宝石材料加工的新型超精密抛光技术及复合抛光技术研究进展》一文中研究指出超精密抛光是一种降低表面粗糙度,获得高表面质量和表面完整性的加工技术。蓝宝石作为典型的难加工硬脆材料,传统抛光方法存在表面会产生崩碎、划痕等损伤,表面质量难以得到保证以及加工效率低等问题。本文综述了应用于蓝宝石材料的磁流变抛光、水合抛光、化学机械抛光和激光抛光等技术的原理与特点及其研究现状,并分析了各抛光技术的优缺点;从表面质量、磨料与磨液、效率与成本等方面对各抛光技术进行比较;介绍了复合抛光技术在蓝宝石材料中的应用;最后重点展望了蓝宝石材料超精密抛光技术的下一步研究。(本文来源于《材料导报》期刊2018年09期）
苏东楠[6]（2018）在《磨粒流精密抛光机床液压系统的研究》一文中研究指出磨粒流机精密抛光机床液压系统是机床的动力,本文以设计机床的液压系统为主。磨粒流精密机床的液压系统包括上、下液压缸,浮动液压缸和液压站,设计时从机床液压系统的工作原理出发,主要完成对上、下液压缸和叁个浮动液压缸的控制,保证上、下料缸有序平稳地循环运动,使磨料在上、下料缸和夹具组成的通道内往复运动,完成对形状复杂的工件抛光工艺。(本文来源于《科技资讯》期刊2018年10期）
曾培阳[7]（2018）在《硬脆材料的精密抛光及其自动化控制技术研究》一文中研究指出随着工业技术的发展,硬脆材料由于其优异的特性,比如抗腐蚀、低膨胀系数、抗氧化、低密度及强度硬度高等,被广泛应用在国防航空及民用领域。但同时由于其易脆性,表面层组织易损伤等特点,不宜采用传统的机加工方法进行加工。本文采用计算机控制的化学机械抛光方法对硬脆材料进行微量去除加工,首先针对硬脆材料的化学机械抛光工艺问题进行研究,接着进一步完成了抛光过程中去除率和驻留时间的理论分析,最后建立了计算机控制的化学机械抛光实验系统,在此基础上完成了硬脆材料的平面和非球面加工。第一章首先介绍了应用于多领域关键场合的特殊零件对硬脆材料的现实需求,进而介绍了目前常用的几种硬脆材料加工方式,并分析了各加工方式的优劣性,指出采用固着磨粒的化学机械抛光几乎适用于任何硬脆材料。接着,介绍了化学机械抛光以及计算机控制抛光的国内外相关研究现状。最后,总结了当前研究中存在的薄弱环节,指明了论文的研究意义,并提出了论文的主要研究内容。第二章首先介绍了化学机械抛光的基本原理,进而对去除过程建立数学模型并分析偏心率和转速比对加工结果的影响,并以此对驻留时间进行求解。最后,简要描述了计算机控制抛光的整体设计思路。第叁章介绍了计算机控制抛光系统的构建,作为后续进行自动化加工实验的基础。首先介绍了机械部分的设计,计算和校核了抛光压力、摩擦力扭矩等关键参数。其次介绍了控制部分的设计,包括单轴速度曲线控制和多轴路径同步控制的算法。第四章综合分析了各加工参数,如主轴转速、抛光压力、磨料粒径和抛光液流速等对去除率和加工质量的影响,总结出一套有效的抛光工艺参数,为实际加工操作者提供一定的理论指导。第五章介绍了抛光过程中的关键问题及其解决方案,包括抛光模与工件的“不匹配度”以及“边缘效应”。然后以抛光非球面K9玻璃为例,详细描述了化学机械抛光的整套加工工艺以及非球面自动化加工的算法。第六章总结了论文的主要研究工作,指出了研究中存在的不足,提出了对进一步研究的相关设想和展望。(本文来源于《浙江大学》期刊2018-01-01）
刘玉林[8]（2017）在《CMP超精密抛光元件兆声波清洗工艺和应用》一文中研究指出分析了CMP后电子元件表面清洗存在的问题,综述了CMP后清洗技术的发展现状,详细阐述了兆声波清洗技术的原理、工艺流程、工艺参数及特点,介绍了兆声波清洗在CMP超精抛光加工技术中的应用与前景。(本文来源于《清洗世界》期刊2017年12期）
杨海吉,张晓君,陈燕,韩冰[9]（2017）在《磁力研磨精密抛光φ4×150 mm TC4管内表面的实验研究》一文中研究指出目的提高磁力研磨法光整小直径TC4管内表面时的研磨效率。方法将多个径向充磁的磁极组成柔性磁极链放置在工件的内部,致使整个加工区域的磁感应强度得到大幅度增强,再配合多种运动,完成对小直径细长管内表面的高效精密抛光。利用响应面法分析了工件转速、磨粒粒径和研磨液用量的交互作用对研磨效率的影响规律。结果在磨粒的平均粒径保持不变时,转速在18 000~20 000 r/min范围内时,表面粗糙度值趋于稳定,研磨液用量为8 m L时,表面粗糙度值达到最低。研磨液用量保持不变、转速在18000~20 000 r/min范围内时,表面粗糙度趋于稳定。磨粒的平均粒径为250μm时,表面粗糙度值达到最低。工件转速不变、研磨液用量为8 m L、磨粒的平均粒径为250μm时,工件表面粗糙度值达到最低。经过40 min的研磨,工件各位置的表面粗糙度值Ra稳定至0.35~0.2μm。结论优化后的工艺参数组合为:工件转速20000 r/min、研磨液用量8 m L、磁性磨粒的平均粒径250μm。加工后工件内表面加工均匀性显着提升,原始缺陷被完全去除,达到最佳效果。(本文来源于《表面技术》期刊2017年12期）
杨海吉,韩冰,陈燕,应骏,解志文[10]（2018）在《自旋转磁极在合金管内表面精密抛光中的应用》一文中研究指出利用磁力研磨法对合金管件内表面进行精密抛光时,通常在管腔内添加辅助磁极来提高单位空间内的磁感应强度,从而增大研磨效率.但添加辅助磁极后,由磁性磨粒组成磁粒刷的刚性提高,导致单个磁性磨粒的运动轨迹过于单一,易在管件表面出现较深划痕.针对这一问题,提出对辅助磁极添加一个径向旋转运动,从理论上分析了单个磁性磨粒的运动轨迹对表面质量的影响,并对钛合金管内表面进行了精密抛光试验.试验结果表明:当管件转速为1 000 r/min、辅助磁极转速为1 800 r/min、磁性磨粒的平均粒径为250μm时,研磨效果最佳,研磨50 min后,表面粗糙度值稳定至Ra 0.11μm,材料去除量可达850 mg,表面质量得到明显改善.(本文来源于《摩擦学学报》期刊2018年02期）
精密抛光论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为解决研磨后圆柱滚子外圆表面质量差的问题,将化学机械抛光技术应用到圆柱滚子外圆加工中。基于自制的双平面研磨抛光机,采用偏心转摆式的加工方式对圆柱滚子进行了化学机械抛光,观测了不同抛光阶段圆柱滚子外圆表面的微观形貌,测量了不同抛光阶段圆柱滚子的表面粗糙度、圆度及表面硬度,并分析了不同抛光阶段中的抛光液对于圆柱滚子加工所起的作用。研究结果表明:在粗抛阶段时,圆柱滚子的表面质量及形状精度能得到快速改善;在精抛阶段时,圆柱滚子的表面质量及形状精度可得到进一步修正;抛光后,圆柱滚子的表面粗糙度可达到0. 011±0. 004μm,圆度可降至0. 31±0. 075 um。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
精密抛光论文参考文献
[1].李文琦,张建波,李恺,马小军,罗炳池.易碎Be靶丸表面精密抛光技术与理论分析[J].表面技术.2019
[2].苏佳,张森,袁巨龙,吕冰海.轴承圆柱滚子外圆精密抛光工艺研究[J].机电工程.2018
[3].何艳,苑泽伟,段振云,张幼军.单晶碳化硅晶片高效超精密抛光工艺[J].哈尔滨工业大学学报.2019
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[5].胡扬轩,邓朝晖,万林林,李敏.用于蓝宝石材料加工的新型超精密抛光技术及复合抛光技术研究进展[J].材料导报.2018
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